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钼溅射靶在薄膜太阳能光伏电池上有何应用?

[ 发布日期:2018-01-29 点击:1643 来源:洛阳高新四丰电子材料有限公司 【打印此文】 【关闭窗口】]

溅射作为一种先进的薄膜材料制备技术,具有“高速”及“低温”两大特点。它利用离子源产生的离子,在真空中加速聚集成高速离子流,轰击固体表面,离子和固体表面的原子发生动能交换,使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面,从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材

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钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT- LOD(Thn Fim Transitr- Liuid Crstal Di-pa,s膜半导体管一液晶显示器等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMDs互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等本文就钼濺射靶材的特点从其应用、市场、制备工艺以及发展趋势等方面进行了总结和讨论


1钼溅射靶材的特点及应用

在电子行业中,钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高电导率较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。

以前,平面显示器的配线材料主要是铬,但随着平面显示器的大型化和高精度化,越来越需要比阻抗小的材料。另外环保也是必须考虑的问题。而钼具有比阻抗和膜应力仅为铬的1/2的优势,而且不存在环境污染问题,因此成为了平面显示器溅射靶材的材料之一。此外,钼使用在LCD的元器件中,可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命方面的性能大大提升

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平面显示器行业中,钼溅射靶材的主要市场应用之一是TFT-LCD领域。市场研究表明,未来几年是LCD发展的高峰期,年增长率达30%左右。随着LCD的发展,LCD溅射靶材的消费量也快速增长年增长率约为20%.2006全球钼溅射靶材的需求量约700t2007则为900t左右.

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平面显示器行业外,随着新能源行业的发展,钼溅射靶在薄膜太阳能光伏电池上的应用也日益增加。钼溅射靶材主要通过溅镀形成CIGS铜铟镓硒)薄膜电池电极层。其中Mo处于太阳能电池的最底层,作为太阳能电池的背接触,其对CIGS薄膜晶体的成核、生长、形貌有着非常重要的作用。

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