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溅射靶材的难点及市场空间

[ 发布日期:2018-08-28 点击:1186 来源:洛阳高新四丰电子材料有限公司 【打印此文】 【关闭窗口】]

      高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的,溅射靶材市场不仅仅在于电子行业,近年来砍溅射靶材的市场规模正在悄然发展,下面就让我们一起来了解一下溅射靶材的难点及市场空间。 

      靶材的难点仅仅看纯度么?

  靶材性能影响镀膜质量,不同应用性能要求各有侧重,通常半导体靶材纯度高,平面显示靶材面积大对均匀性、焊接率要求高,而多元素靶材对原料成分和组织均匀性提出更高要求。靶材原料高纯金属和陶瓷粉位于靶材产业链的高附加值环节,主要依靠日美进口,而国内少数金属企业或靶材企业已开始突破铝、铜、钼等高纯金属原料和ITO 粉末等关键技术。

溅射靶材

      溅射靶材市场空间真的很小么?

  半导体在靶材应用中约占10%;而显示、磁记录各占约30%,市场不容小觑。靶材需求随显示、半导体等市场需求增加,同时单个产品的用量也在提升。WSTS 统计16 年全球靶材市场113.6 亿美元,17-19 年复合增长率13%,则18 年全球市场约合人民币983 亿元。安泰科预计18 年全球金属钴和碳酸锂的消费量分别为12.528.8 万吨,假设18 年价格中枢分别为5011 /吨,则钴锂市场合计941 亿元,与靶材市场规模相当。

      溅射靶材的市场发展空间还是相当巨大的,只要了解了市场详情,就能把握住机遇。

      洛阳高新四丰电子材料有限公司是一家专业从事制造用高纯溅射靶材的高新技术企业,欢迎来电咨询。

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